16.1: Characteristics of Ln‐doped IZO TFT according to the Change of Indium concentration for DeMUX Applications

多路复用器 薄膜晶体管 材料科学 兴奋剂 制作 溅射 光电子学 纳米技术 计算机科学 多路复用 薄膜 电信 医学 替代医学 图层(电子) 病理
作者
Hyeonji Seo,Cheng Gong,Zhihui Cai,Zhixiong Jiang,Shan Li,Jun Cheng Xiao,Xin Zhang,Bin Zhao,Xiaolin Yan
出处
期刊:Sid's Digest Of Technical Papers [Wiley]
卷期号:54 (S1): 125-127
标识
DOI:10.1002/sdtp.16241
摘要

In order to narrow the bezel in high‐end IT and tablets, using switching circuit de‐multiplexer (DeMUX) reduces the number of source D/IC, making small LCD module available. In this study, new oxide TFT material, Ln‐doped InZnO (Ln‐IZO), has been developed. To achieve mobility of > 25cm 2 /V.s, study focused on the effect of Indium (In) concentration on the fabrication of Ln‐IZO sputtering target, and fabricated the DeMUX‐equipped 14 inch FHD driven by gate on array (GOA).
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