Carrier recombination in highly Al doped 4H-SiC: dependence on the injection conditions

重组 兴奋剂 光致发光 材料科学 接受者 激发 光电子学 谱线 凝聚态物理 化学 物理 天文 生物化学 量子力学 基因
作者
Kazuhiro Tanaka,Masashi Kato
出处
期刊:Japanese Journal of Applied Physics [Institute of Physics]
卷期号:63 (1): 011002-011002
标识
DOI:10.35848/1347-4065/ad160c
摘要

Abstract We investigate carrier recombination mechanisms in heavily aluminum (Al) doped p-type 4H-SiC, a material crucial for power devices. The recombination mechanisms in Al-doped p-type 4H-SiC have remained unclear, with reports suggesting various possibilities. To gain insights, we employ photoluminescence (PL) measurements, particularly time-resolved PL (TR-PL), as they are well-suited for studying carrier lifetimes in heavily Al-doped p-type 4H-SiC. We examine the temperature and excitation intensity dependencies of TR-PL and PL spectra and discuss the underlying recombination mechanisms. We observe that the dominant recombination mechanism varies with injection conditions for the samples with Al concentration less than 10 19 cm −3 . Under low injection conditions, recombination via the Al acceptor level appears dominant, exhibiting weak temperature dependence. However, under high injection conditions, Shockley–Read–Hall recombination takes precedence, leading to shorter carrier lifetimes with increasing temperature. This temperature dependence implies that presences of the deep recombination centers with the small capture barrier for holes.

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