Significantly Enhanced Conformal Contact by the Functional Layers on a Copper Film for Thermal Interface Materials

材料科学 热导率 散热膏 热阻 接触电阻 复合材料 图层(电子) 纳米颗粒 热的 氮化物 制作 纳米技术 冶金 气象学 医学 病理 替代医学 物理
作者
Mohamad Alayli,Taehun Kim,Sahng Hoon Cheon,Seunghyun Baik
出处
期刊:Advanced Engineering Materials [Wiley]
卷期号:26 (7) 被引量:1
标识
DOI:10.1002/adem.202301823
摘要

Low‐cost thermal interface materials with high thermal conductivity ( κ ) and low total thermal resistance ( R t ) receive considerable attention for thermal management. A copper film (CuFilm) is an excellent candidate due to the high κ (364 Wm −1 K −1 ) it possesses. However, the practical implementation is hindered by its high elastic modulus ( E s = 70.8 GPa), inducing a high contact thermal resistance ( R c = 91.6 mm 2 K W −1 ). Herein, the selective construction of electrically conducting or insulating layers on CuFilm to dramatically decrease E s , R c , and R t is reported. The highly electrically and thermally conducting layer is synthesized by incorporating in situ reduced copper nanoparticles (CuNPs, 35 vol%) and multiwalled carbon nanotubes embellished with CuNPs (1.5 vol%) in polyethylene glycol. The high effective κ (92.7 Wm −1 K −1 ) still maintains a low specimen thermal resistance ( R s = 4.9 mm 2 K W −1 ), while the dramatically softened surface ( E s = 5.7 GPa) decreases R c (8.3 mm 2 K W −1 ), resulting in a very small R t (13.2 mm 2 K W −1 ). Alternatively, the electrically insulating but thermally conducting layer is constructed using aluminum nitride particles. The κ is still high (72.1 Wm −1 K −1 ) with a small R t (47.5 mm 2 K W −1 ). The facile fabrication based on a CuFilm enables cost‐effective thermal interface materials with tunable electrical and thermal properties.
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