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Spontaneous doping of the basal plane of MoS2 single layers through oxygen substitution under ambient conditions

化学 基面 氧气 催化作用 兴奋剂 电化学 硫黄 结晶学 光化学 无机化学 电极 物理化学 有机化学 材料科学 光电子学
作者
János Pető,Tamás Ollár,Péter Vancsó,Захар И. Попов,Gábor Zsolt Magda,Gergely Dobrik,Chanyong Hwang,Павел Б. Сорокин,Levente Tapasztó
出处
期刊:Nature Chemistry [Springer Nature]
卷期号:10 (12): 1246-1251 被引量:338
标识
DOI:10.1038/s41557-018-0136-2
摘要

The chemical inertness of the defect-free basal plane confers environmental stability to MoS2 single layers, but it also limits their chemical versatility and catalytic activity. The stability of pristine MoS2 basal plane against oxidation under ambient conditions is a widely accepted assumption however, here we report single-atom-level structural investigations that reveal that oxygen atoms spontaneously incorporate into the basal plane of MoS2 single layers during ambient exposure. The use of scanning tunnelling microscopy reveals a slow oxygen-substitution reaction, during which individual sulfur atoms are replaced one by one by oxygen, giving rise to solid-solution-type 2D MoS2−xOx crystals. Oxygen substitution sites present all over the basal plane act as single-atom reaction centres, substantially increasing the catalytic activity of the entire MoS2 basal plane for the electrochemical H2 evolution reaction. MoS2 single layers spontaneously undergo a slow oxygen substitution reaction under ambient conditions giving rise to solid-solution-type 2D molybdenum oxy-sulfide crystals. The oxygen substitution sites of the 2D MoS2−xOx crystals act as efficient single-atom catalytic centres for the hydrogen evolution reaction.
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