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Design of novel silicon-containing alkynyl diamines and their related thermosetting polyimide resins

材料科学 聚酰亚胺 单体 热固性聚合物 二胺 高分子化学 玻璃化转变 硅氧烷 邻苯二甲酸酐 傅里叶变换红外光谱 化学工程 复合材料 有机化学 化学 聚合物 催化作用 图层(电子) 工程类
作者
Yumeng Liu,Xiwei Liu,Jiyu Xia,Yitian Wang,Jianke Hu,Yanhong Hu
出处
期刊:High Performance Polymers [SAGE]
卷期号:36 (6-7): 347-356
标识
DOI:10.1177/09540083241266225
摘要

In order to improve the PI resin’s processability and thermal properties, a novel diamine monomer bis(p-aminophenylethynyl)dimethylsilane was designed and synthesized by introducing silicon and alkyne groups in this paper. And a new thermosetting polyimide resin SiOPI with silicon and alkynyl structures in the main chain was prepared using 4,4′-oxobis (phthalic anhydride) (ODPA) as the dianhydride monomer with this diamine monomer. The structures of the diamine monomer and the polyimide were characterized by H nuclear magnetic resonance spectroscopy ( 1 H NMR), Fourier transform infrared spectroscopy (FT-IR), mass spectrometry (MS), and X-ray diffraction (XRD), respectively. The incorporation of silyl groups into the PI increases the flexibility of the resin and provides good solubility and processability. The SiOPI is well soluble in DMF, DMSO and THF. The resin has a viscosity of less than 200 Pa·s at 50–88°C and has a wide processability range. By virtue of the introduction of alkyne groups, the cured polyimide forms dense reticulated structures, analogous to the benzene ring, giving the resin excellent heat resistance and mechanical property. The glass transition temperature (T g ) of SiOPI reached 367°C, and the heat loss temperature at 5% (T d5 ) is 540.9°C, the heat loss temperature at 10% (T d10 ) is 592.2°C, and the residual carbon rate at 800°C (R 800°C ) is 65.76% in a nitrogen atmosphere. The tensile strength of c-SiOPI is 257.6 MPa at room temperature and 232.9 MPa with a retention rate of 90.41% at 300°C, respectively.
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