Carrier gas flow rate effects on additive-assisted low-temperature Y2O3 film deposition by atmospheric pressure plasma jet

可缩放矢量图形 材料科学 计算机科学 万维网
作者
Bat-Orgil Erdenezaya,Md. Shahiduzzaman,Hirochika Uratani,Ruka Yazawa,Yusuke Nakano,Yasunori Tanaka,Tetsuya Taima,Tatsuo Ishijima
出处
期刊:Materials Science in Semiconductor Processing [Elsevier BV]
卷期号:191: 109365-109365
标识
DOI:10.1016/j.mssp.2025.109365

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