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Fundamentals of pulsed plasmas for materials processing

材料科学等离子体溅射双极扩散等离子体浸没离子注入脉冲功率离子原子物理学脉冲直流溅射沉积高功率脉冲磁控溅射薄膜光电子学电压离子注入纳米技术化学电气工程物理有机化学工程类量子力学

作者

André Anders

出处

期刊：Surface & Coatings Technology [Elsevier]
日期：2003-12-12 卷期号：183 (2-3): 301-311 被引量：132

链接

escholarship.org escholarship.org osti.govdoi.org

标识

DOI：10.1016/j.surfcoat.2003.09.049

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