Chemical Vapour Deposition. Precursors, Processes and Applications. Edited by Anthony C. Jones and Michael L. Hitchman.

迈克尔反应 化学 高分子科学 有机化学 催化作用
作者
Graziella Malandrino
出处
期刊:Angewandte Chemie [Wiley]
卷期号:48 (41): 7478-7479 被引量:10
标识
DOI:10.1002/anie.200903570
摘要

Royal Society of Chemistry, Cambridge 2008. 600 pp., hardcover £ 199.95.—ISBN 978-0854044658
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