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Chemical Vapour Deposition. Precursors, Processes and Applications. Edited by Anthony C. Jones and Michael L. Hitchman.
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作者
Graziella Malandrino
出处
期刊：
Angewandte Chemie
[Wiley]
日期：2009-09-28
卷期号：48 (41): 7478-7479
被引量：10
标识
DOI：10.1002/anie.200903570
摘要
Royal Society of Chemistry, Cambridge 2008. 600 pp., hardcover £ 199.95.—ISBN 978-0854044658
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