Evaluation of Schottky Barrier Height of Al, Ti, Au ,and Ni Contacts to 3C-SiC

材料科学 欧姆接触 肖特基势垒 工作职能 接受者 金属 结晶学 凝聚态物理 冶金 光电子学 纳米技术 化学 二极管 物理 图层(电子)
作者
Masataka Satoh,Hideo Matsuo
出处
期刊:Materials Science Forum 卷期号:527-529: 923-926 被引量:7
标识
DOI:10.4028/www.scientific.net/msf.527-529.923
摘要

The Schottky barrier height (SBH) of Al, Ti, Au, and Ni contacts to n- and p-type 3C-SiC is investigated by means of I-V and C-V measurements. All metal contacts to n- (net donor concentration: 1.0 x 1016 /cm3) and p-type (net acceptor concentration: 4 x 1016 /cm3) 3C-SiC show the rectifying I-V characteristics except for Al contact to n-type 3C-SiC. Only Al contact to n-type 3C-SiC shows the ohmic characteristics. As the work function of metal is increased from 4.3 (Ti) to 5.2 (Ni) eV, SBH for n-type 3C-SiC is increased from 0.4 to 0.7 eV and SBH for p-type 3C-SiC is decreased from 2.2 to 1.8 eV. The small change of SBH for 3C-SiC may be correlated to the crystal orientation and the defects on the surface of 3C-SiC.

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