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Towards tilt-free in plasma etching

蚀刻（微加工） 倾斜（摄像机） 等离子体 等离子体刻蚀 材料科学 光电子学 等离子清洗 反应离子刻蚀 光学 纳米技术 工程类 物理 机械工程 量子力学 图层（电子）
作者
Xiwen Tang,Haimiao Zhang,Yuanwei Lin,Yongqin Cui,Zihan Dong,Ziwei Lian,Yongmin Zhao,Anjie Ming,Chun Wang
出处
期刊：Journal of Micromechanics and Microengineering [IOP Publishing]
日期：2021-09-30 卷期号：31 (11): 115007-115007 被引量：2
标识
DOI：10.1088/1361-6439/ac2bae
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