Two-Dimensional Ferroelasticity and Domain-Wall Flexoelectricity in HgX2 (X = Br or I) Monolayers

挠曲电 铁弹性 单层 凝聚态物理 极化(电化学) 材料科学 磁畴壁(磁性) 化学 压电 铁电性 纳米技术 复合材料 光电子学 物理 物理化学 电介质 量子力学 磁场 磁化
作者
Xi Ding,Yinglu Jia,Gaoyang Gou
出处
期刊:Journal of Physical Chemistry Letters [American Chemical Society]
卷期号:14 (2): 420-429 被引量:2
标识
DOI:10.1021/acs.jpclett.2c03605
摘要

Electromechanical phenomena in two-dimensional (2D) materials can be related to sizable electric polarizations and switchable spontaneous ferroelasticity, allowing them to be used as miniaturized electronic and memory devices. Even in a parent centrosymmetric (nonpolar) ferroelastic (FE) material, non-zero polarization can be produced around the FE domain wall, owing to the strain-gradient-induced flexoelectricity. Compared with the negligibly weak flexoelectric effect in bulk compounds, significant electric polarizations can be expected in 2D FE materials that sustain a large elastic strain and a strain gradient. Using first-principles calculations, we predict that spontaneous 2D ferroelasticity and domain-wall flexoelectricity can be simultaneously realized in synthetic HgX2 (X = Br or I) monolayers. The FE phase renders three oriented variants, which form FE domain walls with a large strain gradient and the associated domain-wall flexoelectric polarizations. Our thermodynamic stability analysis and kinetic barrier simulations allow us to manipulate the domain-wall flexoelectricity via applied mechanical stress, thereby enabling future electromechanical applications in nanoelectronics.
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