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Ultra-shallow p-type doping of silicon by performing atomic layer deposition of Al2O3 thin films onto SiO2/Si
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作者
Salma Khaldi,
Prajith Karadan,
Krushnamurty Killi,
C.E.M. de Oliveira,
Roie Yerushalmi
出处
期刊：
Chemical Communications
[Royal Society of Chemistry]
日期：2024-01-01
链接
nih.gov
doi.org
标识
DOI：10.1039/d4cc04510f
摘要
Atomic layer deposition of Al 2 O 3 onto intrinsic Si and ultra-shallow p-type doping of Si after rapid thermal processing, respectively.
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