A Comparative Study of Electronic Properties of Bulk MoS2 and Its Monolayer Using DFT Technique: Application of Mechanical Strain on MoS2 Monolayer

单层 赝势 带隙 密度泛函理论 材料科学 直接和间接带隙 凝聚态物理 拉伤 电子能带结构 计算化学 纳米技术 化学 光电子学 物理 医学 内科学
作者
Sohail Ahmad,Sugata Mukherjee
出处
期刊:Graphene [Scientific Research Publishing, Inc.]
卷期号:03 (04): 52-59 被引量:170
标识
DOI:10.4236/graphene.2014.34008
摘要

Electronic structure calculation of bulk and monolayer MoS2 has been performed using plane wave pseudopotential method based on density functional theory. The indirect band gap in the bulk MoS2 was found to be 0.9 eV, whereas in the monolayer-MoS2 the band gap of 1.57 eV was found to be direct one. The calculated physical parameters of monolayer MoS2 are found to be very close to the bulk MoS2 and compare well with available experimental and other theoretical results. The calculated density of states (DOS) may help explain this change in the nature of band gap in bulk and in monolayer MoS2. A further variation in band gap has been observed in MoS2 monolayer on applying biaxial strain.
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