Preparation of 157 nm Fluoride Optical Thin Films

氟化物 材料科学 透射率 折射率 薄膜 反射率 涂层 图层(电子) 光学 基础(拓扑) 光电子学 复合材料 纳米技术 化学 无机化学 物理 数学分析 数学
作者
薛春荣 XUE Chunrong,易葵 Yi Kui,邵建达 SHAO Jianda
出处
期刊:Acta Photonica Sinica [Chinese Optical Society]
卷期号:39 (11): 1961-1966
标识
DOI:10.3788/gzxb20103911.1961
摘要

In order to develop low loss,high-performance 157 nm fluoride coatings,157 nm fluoride optical thin film performance is studied.On the base of fluorede single layer study,157 nm HR and AR coatings are designed and deposited with different fluoride high and low refractive index materials.Their reflectivity,transmittance,optical loss and other properties are discussed and compared.In the analysis of several fluoride films and their combined properties,the fluoride combinations of 157 nm HR and AR coatings are optimized selected.To get a high-performance 157 nm HR coating,the NdF3/AlF3 HR mirror is designed and made,and its reflectance is nearly up to 93%.Under the present experimental conditions,the LaF3/AlF3 157 nm AR coanting is designed and deposited,and its residual reflectance is less than 0.17%.

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