Optimization of ALD grown Ni-, Co- and Fe-doped ZnO films

材料科学 兴奋剂 薄膜 化学工程 分析化学(期刊) 原子层沉积
作者
Blagoy Blagoev,P. Terziyska,V. Mehandzhiev,P. Tzvetkov,Daniela Kovacheva,Ivalina Avramova,Tatyana Ivanova,Kostadinka Gesheva,Albena Paskaleva
出处
期刊:Journal of physics [IOP Publishing]
卷期号:1492 (1): 012053-
标识
DOI:10.1088/1742-6596/1492/1/012053
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