Fabrication and gas sensing properties of two-dimensional Ti3C2TxMxene

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作者
Di Han,Zhihua Liu,Lulu Liu,Xiao Han,Dongming Liu,Kai Zhuo,Sang Sheng-Bo
出处
期刊:Chinese Physics [Acta Physica Sinica, Chinese Physical Society and Institute of Physics, Chinese Academy of Sciences]
卷期号:71 (1): 010701-010701
标识
DOI:10.7498/aps.71.20211048
摘要

Since the discovery of graphene materials, two-dimensional materials have been widely recognized and gradually applied. Two-dimensional transition metal carbides (MXenes) have better mechanical, magnetic and electrical properties than traditional two-dimensional materials. In this work, Ti<sub>3</sub>C<sub>2</sub>T<i><sub>x</sub></i> samples are prepared by etching Ti<sub>3</sub>AlC<sub>2</sub> with different etching agents for the solutions of HF and LiF/HCl. The effects of etching agents on the structure and gas sensing properties of Ti<sub>3</sub>C<sub>2</sub>T<i><sub>x</sub></i> materials are studied by scanning electron microscopy (SEM), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), and gas sensing properties analysis. The material structure analysis shows that both HF and LiF/HCl etching agents have good etching effect on Ti<sub>3</sub>C<sub>2</sub>T<sub><i>x</i></sub> material. The results of gas sensing properties show that the gas sensing properties of Ti<sub>3</sub>C<sub>2</sub>T<sub><i>x</i></sub> prepared by LiF/HCl etching agent is better than by HF etching agent, and the wide range, high sensitivity and high stability of NH<sub>3</sub> detection can be achieved at room temperature. The analysis shows that the high sensing performance of Ti<sub>3</sub>C<sub>2</sub>T<sub><i>x</i></sub> prepared by LiF/HCl solution etching is mainly due to the high proportion of —O and —OH functional groups on the surface of Ti<sub>3</sub>C<sub>2</sub>T<sub><i>x</i></sub>. The experimental studies can lay a theoretical foundation for studying the gas sensing and practical application of Ti<sub>3</sub>C<sub>2</sub>T<i><sub>x</sub></i> based sensor.
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