All-dielectric high saturation structural colors with Si3N4 metasurface

结构着色 材料科学 电介质 饱和(图论) 极化(电化学) 光电子学 光学 纳米结构 纳米技术 光子晶体 物理 数学 组合数学 物理化学 化学
作者
Yunfan Hong,Yufang Lei,Xiao-Ming Fang,Xingyi Li,Wenlong Wen,Lingxuan Zhang,Suyang Ge,Siqi Li
出处
期刊:Modern Physics Letters B [World Scientific]
卷期号:34 (14): 2050142-2050142 被引量:9
标识
DOI:10.1142/s0217984920501420
摘要

Structural colors engineering as a promising research area provides a high-resolution and environmental-friendly sustainable colors implementation. Here, metasurface-based concept was used to design waveguides and gratings of Si 3 N 4 material on silicon dioxide substrates. The shift of reflection peaks can be controlled by structural parameters and efficiencies exceeded 90% with half height and width less than 10 nm. This induced structural color with superior saturation. Moreover, such nanostructures showed good sensitivity to polarization angle and incident angle of incident light. The proposed coloring devices look promising for applications in active color displays, imaging devices, and anti-counterfeiting and so on.
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