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作者
Xu Wang,Wei Shi,Raha Vafaei,Nicolas A. F. Jaeger,Lukas Chrostowski
出处
期刊:IEEE Photonics Technology Letters
[Institute of Electrical and Electronics Engineers]
日期:2011-01-01
被引量:59
标识
DOI:10.1109/lpt.2010.2103305
摘要
We have demonstrated uniform and sampled Bragg gratings in silicon-on-insulator strip waveguides with symmetric sidewall corrugations. The fabrication is based on 193-nm deep ultraviolet lithography using a single mask. The measured reflection spectra of sampled gratings exhibit ten usable peaks spaced by 4.2 nm, and show good agreement with theoretical predictions.
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