Preferentially etched diffraction gratings in silicon

衍射 制作 蚀刻(微加工) 材料科学 光学 衍射光栅 衍射效率 光电子学 几何光学 纳米技术 物理 医学 病理 替代医学 图层(电子)
作者
W. T. Tsang,Shyh Wang
出处
期刊:Journal of Applied Physics [American Institute of Physics]
卷期号:46 (5): 2163-2166 被引量:45
标识
DOI:10.1063/1.321859
摘要

Here, we describe the fabrication of diffraction gratings in the {100} surfaces of silicon by preferential etching. The gratings thus made have grooves with well-defined geometric shape and bounded by nearly perfect reflecting walls. Meanwhile, the importance of utilizing this technique in integrated optics is also discussed.
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