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The role of plasma chemistry on functional silicon nitride film properties deposited at low-temperature by mixing two frequency powers using PECVD

等离子体增强化学气相沉积 氮化硅 混合（物理） 等离子体 氮化物 硅 等离子体化学 化学 材料科学 化学工程 光电子学 纳米技术 物理 图层（电子） 工程类 量子力学
作者
Bibhuti B. Sahu,Yongyi Yin,Takayoshi Tsutsumi,Masaru Hori,Jeon G. Han
出处
期刊：Physical Chemistry Chemical Physics [The Royal Society of Chemistry]
日期：2016-01-01 卷期号：18 (18): 13033-13044 被引量：21
链接
nih.govdoi.org
标识
DOI：10.1039/c6cp00986g
摘要
A correlation study of plasma parameters and film properties and the implication of dual frequency PECVD for industry are proposed.
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