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Amorphous Transparent Cu(S,I) Thin Films with Very High Hole Conductivity

无定形固体 电导率 材料科学 电极 氧化铟锡 电阻率和电导率 薄膜 光电子学 导电体 纳米技术 化学 结晶学 复合材料 电气工程 物理化学 工程类
作者
Fangjuan Geng,Yu‐Ning Wu,Daniel Splith,Liangjun Wang,Xiaowan Kang,Xiaojian Chen,Pengsheng Guo,Shanshan Liang,Lei Yang,Michael Lorenz,Marius Grundmann,Jiaqi Zhu,Chang Yang
出处
期刊:Journal of Physical Chemistry Letters [American Chemical Society]
卷期号:14 (26): 6163-6169 被引量:12
标识
DOI:10.1021/acs.jpclett.3c01072
摘要

Amorphous transparent conductors (a-TCs) are key materials for flexible and transparent electronics but still suffer from poor p-type conductivity. By developing an amorphous Cu(S,I) material system, record high hole conductivities of 103–104 S cm–1 have been achieved in p-type a-TCs. These high conductivities are comparable with commercial n-type TCs made of indium tin oxide and are 100 times greater than any previously reported p-type a-TCs. Responsible for the high hole conduction is the overlap of large p-orbitals of I– and S2– anions, which provide a hole transport pathway insensitive to structural disorder. In addition, the bandgap of amorphous Cu(S,I) can be modulated from 2.6 to 2.9 eV by increasing the iodine content. These unique properties demonstrate that the Cu(S,I) system holds great potential as a promising p-type amorphous transparent electrode material for optoelectronics.
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