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Isolate Utilization of Plasmonic Hot Holes in Optoelectronic Enhancement for Copper Iodide (CuI): A Cross‐Investigation by Confocal Kelvin Probe Force Microscopy

开尔文探针力显微镜 材料科学 等离子体子 光电子学 飞秒 半导体 表面等离子体子 制作 光电探测器 激光器 纳米技术 光学 原子力显微镜 医学 物理 替代医学 病理
作者
Liang Chen,Mao Sui,Zhao Shen,Quanzhen Zhang,Can Zhang,Pu Wang,Laurence A. Belfiore,Jianguo Tang
出处
期刊:Advanced Optical Materials [Wiley]
卷期号:11 (16) 被引量:1
标识
DOI:10.1002/adom.202300230
摘要

Abstract Nonradiative decays of surface plasmon (SP) can generate photocarriers in femtosecond, and it therefore has been attracting widespread research attention in ultrafast optoelectronics. Taking advantage of the probe technique, Kelvin probe force microscopy (KPFM) can characterize the spatial distribution of hot carriers in nanoscale and thereby provide necessary analysis for device investigation and engineering. In this work, the behavior of plasmonic hot holes is demonstrated for Ag nanoparticles (NPs) based on the fabrication of CuI hole transport layers. The morphological, optical, and electronic properties of Ag NPs and CuI films are systematically investigated. With the confocal lasers of over‐ and sub‐bandgap wavelength, reversed evolution trends of surface potentials are observed by KPFM, indicating the effective injection of hot holes into CuI valence band (VB). Cross‐verification is also performed based on the fabrication of metal–semiconductor–metal (MSM) photodetectors, and the photoelectrical tests highly dovetail with the surface potential evolution. This research provides an important reference for the plasmonic photoelectronics in both device design and research methods.
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