单宁酸
光刻胶
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材料科学
电镀（地质）
化学工程
纳米技术
化学
有机化学
图层（电子）
地球物理学
地质学
工程类
作者
Zicheng Tang,Xubin Guo,Haihua Wang,Huan Chen,Wenbing Kang
摘要
A new process of in situ Ag fine pattern formation by direct pattern transfer of a modified tannic acid photoresist and in situ electroless plating in an Ag ion solution was reported.
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