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Design and Fabrication of High Performance InGaAs near Infrared Photodetector

暗电流 材料科学 光电二极管 光电子学 量子效率 光电探测器 兴奋剂 制作 砷化铟镓 光学 大气温度范围 砷化镓 医学 替代医学 物理 病理 气象学
作者
Hezhuang Liu,Jingyi Wang,Daqian Guo,Kai Shen,Baile Chen,Jiang Wu
出处
期刊:Nanomaterials [MDPI AG]
卷期号:13 (21): 2895-2895 被引量:8
标识
DOI:10.3390/nano13212895
摘要

InGaAs photodiodes have a wide range of important applications; for example, NIR imaging, fiber optical communication, and spectroscopy. In this paper, we studied InGaAs photodiodes with different doping concentration absorber layers. The simulated results suggested that, by reducing the absorber doping concentration from 1 × 1016 to 1 × 1015 cm−3, the maximum quantum efficiency of the devices can rise by 1.2%, to 58%. The simulation also showed that, by increasing the doping concentration of the absorber layer within a certain range, the dark current of the device can be slightly reduced. A PIN structure was grown and fabricated, and CV measurements suggested a low doping concentration of about 1.2 × 1015 cm−3. Although the thermal activation energy of the dark current suggested a distinct component of shunt dark current at a high temperature range, a dark current of ~6 × 10−4 A/cm2 (−0.5 V) was measured at room temperature. The peak quantum efficiency of the InGaAs device was characterized as 54.7% without antireflection coating and 80.2% with antireflection coating.

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