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Electrical characterization and morphological properties of AlN films prepared by dc reactive magnetron sputtering

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作者
M.A. Moreira,I. Dói,Joao Furtado de Souza,J. A. Diniz
出处
期刊：Microelectronic Engineering [Elsevier]
日期：2010-06-26 卷期号：88 (5): 802-806 被引量：56
标识
DOI：10.1016/j.mee.2010.06.045
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