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Preparation and properties of addition curable silicone resins with excellent dielectric properties and thermal resistance

材料科学 电介质 六甲基二硅氧烷 热稳定性 硅酮 复合材料 化学计量学 微电子 介电损耗 耐化学性 化学工程 纳米技术 有机化学 光电子学 等离子体 化学 物理 量子力学 工程类
作者
Beijing Zhang,Dongxian Zhuo,Aijuan Gu,Guozheng Liang,Jiangtao Hu,Li Yuan
出处
期刊:Polymer Engineering and Science [Wiley]
卷期号:52 (2): 259-267 被引量:18
标识
DOI:10.1002/pen.22077
摘要

Abstract A new addition curable silicone resin (ASiR) system with excellent dielectric and thermal properties was developed, which consists of only two components: poly(methylphenylvinylsiloxane) (PMPVSi) and an end‐capped hydrogen‐functionalized hyperbranched polysiloxane (EHFHPSi). PMPVSi is synthesized by a green and controllable process; EHFHPSi is first synthesized via A 2 + B 3 approach, and then end‐capped by hexamethyldisiloxane (HMDS). Three formulations were designed to investigate the optimum stoichiometry. Results show that cured ASiR resins have greatly different dielectric and thermal properties because of the different chemical structure of cured networks resulting from the different stoichiometries. The resin with a suitable stoichiometry has not only excellent dielectric properties including extremely low dielectric constant (2.96 at 1 Hz) and loss (0.0003 at 1 Hz) as well as good stability on frequency, but also outstanding thermal resistance, exhibiting great potential to be used as a new kind of high‐performance resins for many cutting‐edge industries, especially the microelectronic and insulation fields. POLYM. ENG. SCI., 2012. © 2011 Society of Plastics Engineers
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