Solution‐Processable Large‐Area Black Phosphorus/Reduced Graphene Oxide Schottky Junction for High‐Temperature Broadband Photodetectors

材料科学 石墨烯 光电子学 光电探测器 异质结 肖特基势垒 红外线的 氧化物 范德瓦尔斯力 肖特基二极管 纳米技术 光学 二极管 物理 冶金 化学 有机化学 分子
作者
Yanan Zhou,Xue Yang,Ning Wang,Xiaojian Wang,Jiaxin Wang,Guangming Zhu,Qingliang Feng
出处
期刊:Small [Wiley]
卷期号:20 (34) 被引量:1
标识
DOI:10.1002/smll.202401289
摘要

Abstract 2D materials‐based broadband photodetectors have extensive applications in security monitoring and remote sensing fields, especially in supersonic aircraft that require reliable performance under extreme high‐temperature conditions. However, the integration of large‐area heterostructures with 2D materials often involves high‐temperature deposition methods, and also limited options and size of substrates. Herein, a liquid‐phase spin‐coating method is presented based on the interface engineering to prepare larger‐area Van der Waals heterojunctions of black phosphorus (BP)/reduced graphene oxide (RGO) films at room temperature on arbitrary substrates of any required size. Importantly, this method avoids the common requirement of high‐temperature, and prevents the curling or stacking in 2D materials during the liquid‐phase film formation. The BP/RGO films‐based devices exhibit a wide spectral photo‐response, ranging from the visible of 532 nm to infrared range of 2200 nm. Additionally, due to Van der Waals interface of Schottky junction, the array devices provide infrared detection at temperatures up to 400 K, with an outstanding photoresponsivity (R) of 12 A W −1 and a specific detectivity (D*) of ≈2.4 × 10 9 Jones. This work offers an efficient approach to fabricate large‐area 2D Schottky junction films by solution‐coating for high‐temperature infrared photodetectors.
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