Metrology-class EUV light source based on broadband emission from copper-target laser produced plasma

极紫外光刻 宽带 等离子体 激光器 计量学 极端紫外线 光源 光学 材料科学 光电子学 物理 冶金 量子力学
作者
Seth L. Cousin,Feng Dong,Matt Hettermann,Dave Houser,Patrick Naulleau
标识
DOI:10.1364/euvxray.2024.etu6a.2
摘要

The performance and characteristics of our broadband EUV source derived from copper-based laser produced plasma, currently in use in our EUV reflectometer and EUV Scatterometry tools are presented for the first time in this submission
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