Light-induced electrostatic lithography: selective discharge of electrets by utilizing photothermal conversion of Ti3C2Tx MXene

平版印刷术 材料科学 驻极体 光热治疗 光电子学 X射线光刻 纳米技术 抵抗 复合材料 图层(电子)
作者
Hui Ma,Haoge Cheng,Xinlei Ma,Sen Wang,Zhuqing Zhou,Yuqiao Chai,Ruoqi Chen,Xinyue Zhang,Yonglin He,Yapei Wang,Yan Li,Xusheng Wang,Rui Li,Ning Ma,Mianqi Xue
出处
期刊:Journal of materials chemistry. A, Materials for energy and sustainability [Royal Society of Chemistry]
卷期号:8 (36): 19022-19027 被引量:9
标识
DOI:10.1039/d0ta06094a
摘要

A novel light-induced electrostatic lithography is developed by combining in situ photothermal conversion with selective thermally stimulated discharging.
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