Synthesis of Molybdenum Carbide and Formation of an Epitaxial Mo2c/MoS2 Hybrid Structure Via Carburization of Molybdenum Disulfide

材料科学 二硫化钼 异质结 退火(玻璃) 碳化物 外延 肖特基势垒 电极 光电子学 氧化物 纳米技术 化学工程 冶金 图层(电子) 化学 物理化学 工程类 二极管
作者
Jaeho Jeon,Jin‐Hee Lee,Seunghyuk Choi,Byoung Hun Lee,Young Jae Song,Jeong Ho Cho,Yun Hee Jang,Sungjoo Lee
出处
期刊:Meeting abstracts 卷期号:MA2018-01 (10): 838-838
标识
DOI:10.1149/ma2018-01/10/838
摘要

The epitaxial formation of metallic molybdenum carbide (Mo 2 C, a 2D MXene material) is achieved via chemical conversion of molybdenum disulfide with thermal annealing under CH 4 and H 2. A fully converted metallic Mo 2 C and Mo 2 C/MoS 2 hybrid junctions could be provided with the adjusting of synthesis area of Mo 2 C the thermal annealing period. Mo 2 C film shows a metallic property as the outstanding electrode with a low sheet resistance (123.6 Ω/cm 2 ) and carrier concentration of 5.84Х10 13 /cm 2 . Mo 2 C/MoS 2 hybrid junctions display a low contact resistance (1.2 kΩ∙μm) and low Schottky barrier height (26 meV), indicating the material’s potential utility as a critical hybrid structural building block in future device applications. Mo 2 C grows and forms a Mo 2 C/MoS 2 hybrid structure were simulated by density functional theory calculations to model the mechanisms. The results show that Mo 2 C conversion is initiated at the MoS 2 edge and undergoes sequential hydrodesulfurization and carbide conversion steps, and an atomically sharp interface with MoS 2 forms through epitaxial growth of Mo 2 C. This work provides the area-controllable synthesis of a manufacturable MXene from a transition metal dichalcogenide (TMD) material and the formation of a metal/semiconductor junction structure. The present results will be of critical importance for future 2D heterojunction structures and functional device applications.

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