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Suppressing the Intrinsic Photoelectric Response of Organic Semiconductors for Highly‐Photostable Organic Transistors

材料科学 光电子学 有机半导体 光电效应 晶体管 半导体 纳米技术 电气工程 工程类 电压
作者
Zhongwu Wang,Yining Ma,Shujing Guo,Liqian Yuan,Yongxu Hu,Yinan Huang,Xiaosong Chen,Deyang Ji,Jinshun Bi,Yong Lei,Cheng Han,Liqiang Li,Wenping Hu
出处
期刊:Small [Wiley]
卷期号:19 (50)
标识
DOI:10.1002/smll.202304634
摘要

Abstract Suppressing the photoelectric response of organic semiconductors (OSs) is of great significance for improving the operational stability of organic field‐effect transistors (OFETs) in light environments, but it is quite challenging because of the great difficulty in precisely modulating exciton dynamics. In this work, photostable OFETs are demonstrated by designing the micro‐structure of OSs and introducing an electrical double layer at the OS/polyelectrolyte dielectric interface, in which multiple exciton dynamic processes can be modulated. The generation and dissociation of excitons are depressed due to the small light‐absorption area of the microstripe structure and the excellent crystallinity of OSs. At the same time, a highly efficient exciton quenching process is activated by the electrical double layer at the OS/polyelectrolyte dielectric interface. As a result, the OFETs show outstanding tolerance to the light irradiation of up to 306 mW·cm −2 , which far surpasses the solar irradiance value in the atmosphere (≈138 mW·cm −2 ) and achieves the highest photostability ever reported in the literature. The findings promise a general and practicable strategy for the realization of photostable OFETs and organic circuits.
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