Synthesis of Erbium Deuterides via Deuterium Ion Implantation into Erbium Thin Films

材料科学 通量 离子 离子束 离子注入 分析化学(期刊) 薄膜 原子物理学 化学 光电子学 兴奋剂 纳米技术 色谱法 物理 有机化学
作者
J. Northall,M.S.B. Darby,Adam Cooper,A. Hollingsworth,Y. Zayachuk,A. Wohlers,A. J. Simons,H. Smith
出处
期刊:Fusion Science and Technology [Taylor & Francis]
卷期号:80 (3-4): 486-494 被引量:1
标识
DOI:10.1080/15361055.2023.2258002
摘要

An experimental study of a synthesis technique in which deuterium ions are implanted into thin films of erbium to form erbium deuterides is presented. Results from thermal desorption spectroscopy indicate the synthesis of multiple hydride phases has occurred, including ErD3 and ErD2. The findings also indicate that, for erbium deuteride synthesis via ion beam bombardment, elevated substrate temperatures are not required to promote deuterium uptake in the film. Stoichiometries of up to ErD0.21 were achieved for a 400-nm film exposed to a 1000-eV ion beam for 5 h at a deuterium ion fluence of 3.6 × 1022 m−2. Over the tested experimental conditions, deuterium uptake was found to scale proportionally with deuterium ion fluence and ion energy. The presence of deuterium in the film was confirmed by secondary ion mass spectrometry.

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