Electronic and bonding structures of amorphous Si–C–N thin films by x-ray absorption spectroscopy

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作者
H. M. Tsai,J. C. Jan,J. W. Chiou,W. F. Pong,M.-H. Tsai,Y. K. Chang,Y. Y. Chen,Yun Yang,L. J. Lai,Jih‐Jen Wu,C. T. Wu,Kuei‐Hsien Chen,Li‐Chyong Chen
出处
期刊:Applied Physics Letters [American Institute of Physics]
卷期号:79 (15): 2393-2395 被引量:12
标识
DOI:10.1063/1.1409275
摘要

X-ray absorption near edge structure (XANES) spectra of hard amorphous a-Si–C–N thin films with various compositions were measured at the C and N K-edge using sample drain current and fluorescent modes. The C K-edge XANES spectra of a-Si–C–N contain a relatively large 1s→π* peak, indicating that a substantial percentage of carbon atoms in the a-Si–C–N films have sp2 or graphite-like bonding. Both the observed sp2 intensity and the Young’s modulus decrease with an increase in the carbon content. For N K-edge XANES spectra of the a-Si–C–N films we find the emergence of a sharp peak near the threshold when the carbon content is larger than between 9% and 36%, which indicates that carbon and nitrogen atoms tend to form local graphitic carbon nitride.
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