Measurement of low-order aberrations with an autostigmatic microscope

显微镜 光学 光学(聚焦) 度量(数据仓库) 计算机科学 光学显微镜 灵敏度(控制系统) 材料科学 人工智能 计算机视觉 物理 电子工程 工程类 扫描电子显微镜 数据挖掘
作者
William P. Kuhn
标识
DOI:10.1117/12.2274813
摘要

The addition of a piezo-electric focusing stage and phase retrieval algorithms to a compact, adaptable autostigmatic microscope provides for both improved focus sensitivity during optical system alignment as well as the ability to measure low-order aberrations for system qualification. A description of the instrument and initial results are reported.

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