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作者
Dibyashree Koushik,Matthias Jost,Algirdas Dučinskas,Claire H. Burgess,Valerio Zardetto,Christ H. L. Weijtens,Marcel A. Verheijen,Erwin Kessels,Steve Albrecht,Adriana Adriana Creatore
摘要
Careful interface design and engineering are “keys” to effectively implement a conformal 10 nm plasma-assisted atomic-layer-deposited NiO film as hole transport layer in a p–i–n perovskite solar cell architecture.
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