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Quantitative in situ synchrotron X-ray analysis of the ALD/MLD growth of transition metal dichalcogenide TiS2 ultrathin films

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作者
Ashok K. Yadav,Weiliang Ma,Petros Abi Younes,G. Ciatto,Nicolas Gauthier,E. Skopin,E. Quadrelli,Nathanaëlle Schneider,H. Renevier
出处
期刊:Nanoscale [The Royal Society of Chemistry]
卷期号:16 (4): 1853-1864
标识
DOI:10.1039/d3nr04222g
摘要

We present a quantitative X-ray absorption spectroscopy study performed in situ during the growth of ultrathin TiS 2 films by Atomic/Molecular layer deposition, exploiting insights from density functional theory calculations.
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