Calcium Fluoride Films with 2–10 nm Thickness on Silicon-(111): Growth, Diagnostics, Study of the through Current Transport

电流(流体) 材料科学 氟化物 光电子学 纳米技术 化学 无机化学 冶金 电气工程 工程类
作者
A. G. Banshchikov,M. I. Vexler,И. А. Иванов,Yu. Yu. Illarionov,N. S. Sokolov,С.М. Сутурин
出处
期刊:Semiconductors [Springer Nature]
卷期号:57 (4): 211-215
标识
DOI:10.1134/s1063782623070047
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