Nanometer-scale wafer surface defect measurement based on state-space digital holographic microscopy

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作者
Shuo Geng,Lingyu Ai,Yujia Gao,Zhi Yong Gan,Yingjie Xiao,Wenfang Gong,M.W. Cho,Kanghee Won
标识
DOI:10.1117/12.3057372
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