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Incorporation of N in p-type Zn-N-doped SnO2 films by varying N2 content in sputtering gas mixture
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作者
Ho Kim Dan,
Minh Khang Pham,
Huu Phuc Dang,
Uy Lap Quach,
Anh Tuan Dao,
Tran Le
出处
期刊：
Materials Science in Semiconductor Processing
[Elsevier BV]
日期：2023-03-01
卷期号：155: 107230-107230
标识
DOI：10.1016/j.mssp.2022.107230
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