Influence of sputtering pressure on the structure and properties of ZrO2 films prepared by rf reactive sputtering

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作者
Pengtao Gao,Lijian Meng,M.P. dos Santos,V. Teixeira,M. Andritschky
出处
期刊:Applied Surface Science [Elsevier BV]
卷期号:173 (1-2): 84-90 被引量:50
标识
DOI:10.1016/s0169-4332(00)00888-6
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