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Band Structures of Transition-Metal-Dichalcogenide Layer Compounds

物理 结晶学 过渡金属 Atom(片上系统) 凝聚态物理 原子物理学 化学 计算机科学 生物化学 嵌入式系统 催化作用
作者
L. F. Mattheiss
出处
期刊:Physical review 卷期号:8 (8): 3719-3740 被引量:1299
标识
DOI:10.1103/physrevb.8.3719
摘要

The nonrelativistic augmented-plane-wave (APW) method is applied to calculate the electronic band structures of several transition-metal-dichalcogenide ($T{X}_{2}$) layer compounds, including materials with the $C6(1T\ensuremath{-}\mathrm{Hf}{\mathrm{S}}_{2},1T\ensuremath{-}\mathrm{Ta}{\mathrm{S}}_{2})$, $C27(2H\ensuremath{-}\mathrm{Ta}{\mathrm{S}}_{2},2H\ensuremath{-}\mathrm{Nb}{\mathrm{Se}}_{2})$, and $C7(2H\ensuremath{-}\mathrm{Mo}{\mathrm{S}}_{2})$ structure types. These calculations involve crystal potentials that are derived from neutral-atom charge densities. The results of these calculations confirm that the group-$\mathrm{IV}B$ ($1T\ensuremath{-}\mathrm{Hf}{\mathrm{S}}_{2}$) and group-$\mathrm{VI}B$ ($2H\ensuremath{-}\mathrm{Mo}{\mathrm{S}}_{2}$) compounds are semiconductors; the calculated indirect band gaps of 2.7 and 1.2 eV are in reasonable agreement with the observed values of 2.0 and 1.4 eV, respectively. Metallic behavior is predicted for the intermediate group-$\mathrm{V}B$ compounds $1T\ensuremath{-}\mathrm{Ta}{\mathrm{S}}_{2}$, $2H\ensuremath{-}\mathrm{Ta}{\mathrm{S}}_{2}$, and $2H\ensuremath{-}\mathrm{Nb}{\mathrm{Se}}_{2}$. A novel feature of the metal $d$ bands in the $2H\ensuremath{-}T{X}_{2}$ compounds is the occurence of a 1-eV hybridization gap within the ${d}_{{z}^{2}}$ and ${d}_{xy}$, ${d}_{{x}^{2}\ensuremath{-}{y}^{2}}$ manifolds. This splits off a pair of hybridized $d$ bands which are half-filled in $2H\ensuremath{-}\mathrm{Ta}{\mathrm{S}}_{2}$ and $2H\ensuremath{-}\mathrm{Nb}{\mathrm{Se}}_{2}$ and completely filled in $2H\ensuremath{-}\mathrm{Mo}{\mathrm{S}}_{2}$. As a result of this hybridization gap, the valence or conduction bandwidths in each of these $2H\ensuremath{-}T{X}_{2}$ compounds are reduced to about 1 eV.
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