材料科学
蚀刻(微加工)
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化学工程
介孔有机硅
介孔材料
纳米技术
有机化学
化学
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图层(电子)
工程类
作者
Meiying Wu,Yu Chen,Lingxia Zhang,Xiaoyu Li,Xiaojun Cai,Yanyan Du,Linlin Zhang,Jianlin Shi
摘要
Hollow mesoporous organosilica nanoparticles have been developed by a salt-assisted acid etching strategy and employed to co-deliver DOX and shRNA.
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