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Deposition and characterization of ternary thin films within the Ti–Al–C system by DC magnetron sputtering

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作者
Ola Wilhelmsson,J.-P. Palmquist,Erik Lewin,Jens Emmerlich,Per Eklund,Per O. Å. Persson,Hans Högberg,S. Li,Rajeev Ahuja,Olle Eriksson,Lars Hultman,Ulf Jansson
出处
期刊:Journal of Crystal Growth [Elsevier BV]
卷期号:291 (1): 290-300 被引量:231
标识
DOI:10.1016/j.jcrysgro.2006.03.008
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