Transport Study of PEALD IGZO TFT at Cryogenic Temperatures down to 6 K

薄膜晶体管 光电子学 材料科学 纳米技术 图层(电子)
作者
Wenhui Wang,Meishan Zhang,Jun Lan,Jiqing Lu,Mei Shen,Feichi Zhou,Longyang Lin,Panpan Zhang,Yida Li
标识
DOI:10.1109/vlsitsa60681.2024.10546411
摘要

In this work, we study the transport behavior of plasma-enhanced atomic-layer deposited (PEALD) IGZO TFT at cryogenic temperatures down to 6 K. The PEALD deposited IGZO TFT features decent field-effect mobility $(\mu_{FE})$ of 37.04 cm 2 /V.s, excellent subthreshold swing (SS) of 68.7 mV/dec and positive threshold voltage $(V_{TH})$ of 0.48 V. The electrical properties were measured over temperature range from 6 K to 300 K. As temperature reduces to 6K, $\mu_{FE}$ ' drops to 22.3 cm 2 /V.S, while SS improves to below 60 mV/dec, with a positive $V_{TH}$ shift, beneficial for ultra-low power circuitry.

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