Atomic-level flat polishing of polycrystalline diamond by combining plasma modification and chemical mechanical polishing

抛光 钻石 材料科学 化学机械平面化 聚晶金刚石 微晶 等离子体 冶金 复合材料 物理 量子力学
作者
Song Yuan,Chi Fai Cheung,Alborz Shokrani,Zejin Zhan,Chunjin Wang
出处
期刊:CIRP Annals [Elsevier BV]
标识
DOI:10.1016/j.cirp.2025.03.024
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