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Blazed gratings with both controllable blaze angle and anti-blaze angle fabricated by using a twice oblique ion beam etching method

光学 栅栏 蚀刻(微加工) 材料科学 闪耀光栅 衍射光栅 梁(结构) 光刻胶 光电子学 物理 纳米技术 图层(电子)
作者
Di Zhang,Xinyu Mao,Lijiang Zeng
出处
期刊:Applied Optics [Optica Publishing Group]
卷期号:61 (33): 9972-9972 被引量:1
标识
DOI:10.1364/ao.474098
摘要

A twice oblique ion beam etching method is proposed to fabricate triangular blazed gratings that have controllable both blaze angle and anti-blaze angle. The anti-blaze angle is controlled by first obliquely etching the photoresist mask to obtain an asymmetrical trapezoidal grating, one sidewall of which then evolves into the anti-blaze facet in the second etch step. The blaze angle is controlled by obliquely etching the asymmetrical trapezoidal grating to obtain a triangular blazed grating. We show the key process steps of the method by fabricating a blazed grating with the blaze angle of 20.9° and the anti-blaze angle of 89.0°. The method is verified not only to increase the anti-blaze angle to near 90°, but also have a good tolerance against over-etching.
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