Designing Responsive Buckled Surfaces by Halftone Gel Lithography

中间调 光掩模 平版印刷术 搭扣 屈曲 光刻 刚度 皱纹 材料科学 基质(化学分析) 复合材料 计算机科学 纳米技术 抵抗 光电子学 图像(数学) 人工智能 图层(电子)
作者
Jungwook Kim,James Hanna,Myunghwan Byun,Christian D. Santangelo,Ryan C. Hayward
出处
期刊:Science [American Association for the Advancement of Science (AAAS)]
卷期号:335 (6073): 1201-1205 被引量:840
标识
DOI:10.1126/science.1215309
摘要

Self-actuating materials capable of transforming between three-dimensional shapes have applications in areas as diverse as biomedicine, robotics, and tunable micro-optics. We introduce a method of photopatterning polymer films that yields temperature-responsive gel sheets that can transform between a flat state and a prescribed three-dimensional shape. Our approach is based on poly(N-isopropylacrylamide) copolymers containing pendent benzophenone units that allow cross-linking to be tuned by irradiation dose. We describe a simple method of halftone gel lithography using only two photomasks, wherein highly cross-linked dots embedded in a lightly cross-linked matrix provide access to nearly continuous, and fully two-dimensional, patterns of swelling. This method is used to fabricate surfaces with constant Gaussian curvature (spherical caps, saddles, and cones) or zero mean curvature (Enneper's surfaces), as well as more complex and nearly closed shapes.
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