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Simulation and characterization of millimeter-wave InAlN/GaN high electron mobility transistors using Lombardi mobility model

跨导 截止频率 材料科学 电子迁移率 晶体管 光电子学 散射 电容 极高频率 高电子迁移率晶体管 散射参数 切断 表面光洁度 表面粗糙度 光学 化学 物理 复合材料 电压 物理化学 量子力学 电极
作者
Jiangfeng Du,Hui Yan,Chenggong Yin,Zhihong Feng,Shaobo Dun,Qi Yu
出处
期刊:Journal of Applied Physics [American Institute of Physics]
卷期号:115 (16) 被引量:12
标识
DOI:10.1063/1.4873975
摘要

A gate length of 0.2 μm InAlN/GaN high electron mobility transistor on SiC substrate is obtained with a maximum current gain cutoff frequency (fT) of 65.8 GHz and a maximum power gain cutoff frequency (fmax) of 143.6 GHz. Lombardi model, which takes interface roughness scattering into consideration, has been introduced to model the transconductance (gm) degradation. The simulated gm and fT with Lombardi model are 69% and 58% lower than the ones without considering interface roughness scattering, respectively. Further analysis show experimental gm, gate capacitance (Cg), and fT are consistent with results based on Lombardi model.
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