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A High-Gain CMOS Operational Amplifier Using Low-Temperature Poly-Si Oxide TFTs

薄膜晶体管 CMOS芯片 材料科学 光电子学 放大器 晶体管 电气工程 截止频率 无定形固体 电压 纳米技术 化学 工程类 结晶学 图层(电子)
作者
Abidur Rahaman,Han-Sol Jeong,Jin Jang
出处
期刊:IEEE Transactions on Electron Devices [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:67 (2): 524-528 被引量:39
标识
DOI:10.1109/ted.2019.2958053
摘要

A high-performance CMOS operational amplifier (op-amp) has been demonstrated with the low-temperature poly-Si oxide (LTPO) thin-film transistors (TFTs). The p-type TFT exhibits the maximum field-effect mobility of 80 cm 2 /V.s and subthreshold swing (SS) of 0.7 V/decade. The n-type amorphous indium-gallium-zinc oxide (a-IGZO) TFT exhibits the SS of 0.3 V/decade and the mobility of 11.5 cm 2 /V.s. The op-amp consisting of 13 TFTs functions in two stages. It exhibits a high voltage gain of 50.7 dB, a cutoff frequency of 200 kHz, a unit gain frequency of 7 MHz, and a very high gain-bandwidth product of 68.5 MHz. The first LTPO CMOS op-amp with low-power consumption of 0.6 mW demonstrates the potentiality of this emerging technology.
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