Comparison between SiOC Thin Film by plasma enhance chemical vapor deposition and SiO2 Thin Film by Fourier Transform Infrared Spectroscopy

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作者
Teresa Oh,Chi Kyu Choi
出处
期刊:Journal of the Korean Physical Society [Springer Science+Business Media]
卷期号:56 (4): 1150-1155 被引量:196
标识
DOI:10.3938/jkps.56.1150

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